焦磷酸盐镀铜添加剂
产品介绍
RC- 203 焦磷酸铜电镀光亮剂
一、 特点
1.镀液呈微碱性,且有非常好的深镀能力,故特别适用于形状复杂的锌压铸件。
2.镀层光亮平滑,电流密度范围宽阔。
3.可作滚镀或挂镀使用。
4.单组分光剂,容易管理。
二、镀液组成及操作条件
原料及操作条件 | 范围 | 标准(一般开缸份量) | ||
焦磷酸钾(K4P2O7) | 250克/升 | |||
焦磷酸铜(Cu2P2O7 ? 4H2O) | 70克/升 | |||
氨水 | (NH4OH) | 2-4毫升/升 | 3毫升/升 | |
焦铜RC-203光亮剂 | 1-2毫升/升 | 1毫升/升 | ||
金属铜 | (Cu++) | 20 - 30克/升 | 23克/升 | |
焦磷酸根 | (P2O74-) | 125 - 230克/升 | 150克/升 | |
焦磷酸根:铜(P比) | 6.5 - 7.5 : 1 | 6.9: 1 | ||
温度 | 50 - 55 ℃ | 55 ℃ | ||
pH | 8.6 - 8.9 | 8.6 | ||
阴极电流密度 | 1 - 6安培/平方分米 | 4安培/平方分米 | ||
三、配制镀液
1.注入二份之二的水于代用缸(或预备槽)中,加热至50℃。
2.加入所需的焦磷酸钾,搅拌使其完全溶解。
3.加入焦磷酸铜,强烈搅拌且至完全溶解。
4.加入2毫升/升双氧水,加入前先以水稀释,搅拌打气2小时。
5.加入活性碳2-4克/升,搅拌数小时,然后静置整晚。
6.用过滤泵,把镀液滤入清洁之电镀槽内。
7.加水至水位,把镀液加热至工作范围。
8.加入稀硫酸,调整酸碱度(pH值)至8.6。
9.用波浪状的假阴极(Dummy Cathode)以低电流密度(0.1 - 0.4安培/平方分米) 连续电解数小时。
10.加入上表中的RC-203光亮剂后,便可以开始试镀。
四、设备
1. 镀槽 柔钢(Mild Steel)缸衬上合适的橡胶、聚氯乙烯或聚丙稀。
2. 加热器 可用不锈钢、钛、或石英电笔加热。
3. 阳极 须能用OFHC无氧高导电铜棒。不适宜使用钛蓝盛载小块的铜粒,以免影响阳极电流密度及阳极的溶解。
4. 阳极袋 不需要。
5. 过滤泵 镀液需要连续循环过滤。过滤泵至少能在1小时内将镀液过滤4次。
五、添加剂的补充
补给方法
RC-203焦磷酸铜添加剂 消耗量(1000安培小时)
焦铜RC-203光亮剂 180-220毫升
视操作温度、搅拌程度及液面面积而定,氨水补充量约0.05 - 0.1毫升/升/小时
六、操作要点
1.注意焦磷酸钾、焦磷酸铜的纯度和杂质。部分市面上的焦磷酸钾含结晶水,致令焦磷酸根比例下降,此时应重新计算及再调整。
2.阳极应用OFHC纯铜(无氧高导电铜) 。
3.加入大量氨水后,宜打气搅拌一会后,才直接电镀。
4.镀液的P比(焦磷酸根:铜)及pH值的控制至为重要。
七、故障处理方法
故障 成因 纠正方法
高电位烧焦 a)金属铜过低 a)分析补充
b)焦磷酸根含量偏低 b)分析补充
c)电流密度太大 c)调整至标准范围
d)镀液温度太低 d)加温至50 – 55℃
e)空气搅拌不足 e)检测设备,提高搅拌气量
低电位暗哑 a)氨水过多 a)升温赶走氨水
b)温度过高 b)降低温度至50 – 55℃
c)焦磷酸根偏低 c)分析及补充焦磷酸根
低电位阶梯状镀层 光剂过多 电解或活性碳处理
镀屠不光亮 a)光剂不足 a)加光剂0.1-0.2毫升/升
b)氨水不足 b)加氨水1 - 2毫升/升
c)氰化物带入 c)检查氰化物来源,加入1-2毫升/升
双氧水,搅拌1小时后再镀
镀层发脆 有机杂质污染 活性碳处理
镀层有暗哑斑点 六价铬污染 以1安培/平方米电解处理